光刻工藝設備產(chǎn)品概述:$n應用于3D封裝、LED、微機電系統(tǒng)、化合物半導體、功率器件等領(lǐng)域$n主要配置:自動對準、自動曝光、LED光源、機器視覺對準系統(tǒng)、高精度硅片承載臺、自動楔形誤差補償系統(tǒng)$n LED 光源:3波長任意配置,支持更多應用場景$n高分辨率、高均勻性;使用壽命長,維護簡便:$n機器視覺對準系統(tǒng):頂部和底部雙模式對準,大視野、高精度;4種照明光可選,工藝適應性強; 手動、自動模式自由切換
半自動光刻機產(chǎn)品概述:$n應用于3D封裝、LED、微機電系統(tǒng)、化合物半導體、功率器件等領(lǐng)域$n主要配置:自動對準、自動曝光、LED光源、機器視覺對準系統(tǒng)、高精度硅片承載臺、自動楔形誤差補償系統(tǒng)$n LED 光源:3波長任意配置,支持更多應用場景$n高分辨率、高均勻性;使用壽命長,維護簡便:$n機器視覺對準系統(tǒng):頂部和底部雙模式對準,大視野、高精度;4種照明光可選,工藝適應性強; 手動、自動模式自由切換