實(shí)驗(yàn)室無(wú)掩膜曝光機(jī)

簡(jiǎn)要描述：實(shí)驗(yàn)室無(wú)掩膜曝光機(jī)
CG-MLC6系列直寫(xiě)光刻機(jī)是一款精巧型光刻產(chǎn)品。該設(shè)備采用數(shù)字光刻技術(shù)，無(wú)需掩模版，能夠直接將版圖信息轉(zhuǎn)移到涂有光刻膠的襯底上。CG-MLC6系列直寫(xiě)光刻機(jī)功能靈活、體積小、性?xún)r(jià)比高，專(zhuān)為各高校、實(shí)驗(yàn)室及研究機(jī)構(gòu)量身打造。其主要應(yīng)用產(chǎn)品包括各類(lèi)MEMS制作（如MEMS麥克風(fēng)、壓力傳感器、加速度計(jì)、陀螺儀、超聲波傳感器、壓電傳感器）、掩模板制作等。

基礎(chǔ)信息

產(chǎn)品型號(hào)

CG-MLC6

廠商性質(zhì)

生產(chǎn)廠家

更新時(shí)間

2025-05-22

瀏覽次數(shù)

1950

產(chǎn)品分類(lèi)

PRODUCT CLASSIFICATION

光刻機(jī)

查看全部產(chǎn)品

光刻工藝設(shè)備在芯片制造中的關(guān)鍵作用

光刻工藝設(shè)備的核心使命與應(yīng)用

半導(dǎo)體涂膠均勻性提升方法：從工藝到設(shè)備的全維度優(yōu)化

詳細(xì)介紹

品牌	其他品牌

實(shí)驗(yàn)室無(wú)掩膜曝光機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn)：

數(shù)字光刻系統(tǒng)

微納器件無(wú)掩模版直寫(xiě)光刻

光掩模版制作

3D結(jié)構(gòu)曝光功能

自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)功能

用戶(hù)自定義標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)功能

可視化定點(diǎn)曝光功能

自動(dòng)聚焦功能

不規(guī)則樣片曝光

快速、精細(xì)兩種曝光模式

支持多種數(shù)據(jù)格式（GDSⅡ/ Gerber/ O DB++）

背部對(duì)準(zhǔn)功能（選配）

405nm LD光源（375nm可選）

實(shí)驗(yàn)室無(wú)掩膜曝光機(jī)參數(shù)：

型號(hào)	MLC Lite
型號(hào)	ModeⅠ	Mode Ⅱ	Mode Ⅲ
最小特征尺寸	0.5μm	1μm	2μm
最小線寬線距	0.8μm	1.2μm	2.5μm
CD均勻性	10%	10%	10%
兩層對(duì)位精度 5x5m㎡	500nm	800nm	1000nm
兩層對(duì)位精度 50x50m㎡	800nm	1000nm	1500nm
產(chǎn)能	50mm²/min	100mm²/min	300mm²/min
最小基板尺寸	5mm x 5mm
基板厚度	0.1 - 12mm(可選)
曝光面積	150mm x 150mm
灰度曝光	可選128階
曝光光源	Laser, 405nm or 375nm

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