旋涂?jī)x是一種用于在基片表面均勻涂覆液體薄膜的設(shè)備
更新時(shí)間：2025-10-31
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旋涂?jī)x又稱(chēng)勻膠機(jī)、甩膠機(jī)等，是一種用于在基片表面均勻涂覆液體薄膜的設(shè)備。是一種廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、半導(dǎo)體制造、微電子、光學(xué)和生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域的實(shí)驗(yàn)室及生產(chǎn)設(shè)備，其核心功能是在基片(如硅片、玻璃片、聚合物片等)表面均勻涂覆液體薄膜(如光刻膠、聚合物溶液、生物材料等)。
將液體材料滴加到靜止或低速旋轉(zhuǎn)的基片中心，基片在電機(jī)驅(qū)動(dòng)下高速旋轉(zhuǎn)，離心力使液體材料從中心向外鋪展，隨著旋轉(zhuǎn)速度穩(wěn)定，液體材料在基片表面形成均勻的薄膜。對(duì)于含溶劑的液體，旋轉(zhuǎn)過(guò)程中溶劑揮發(fā)，形成固態(tài)或半固態(tài)薄膜。
旋涂?jī)x通過(guò)高速旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的離心力，使液體材料均勻鋪展并形成厚度可控的薄膜。具體過(guò)程如下：
滴液：將液體材料(如光刻膠)滴加到靜止或低速旋轉(zhuǎn)的基片中心。
加速旋轉(zhuǎn)：基片在電機(jī)驅(qū)動(dòng)下高速旋轉(zhuǎn)，離心力使液體材料從中心向外鋪展。
薄膜形成：隨著旋轉(zhuǎn)速度穩(wěn)定，液體材料在基片表面形成均勻的薄膜。
溶劑揮發(fā)(可選)：對(duì)于含溶劑的液體，旋轉(zhuǎn)過(guò)程中溶劑揮發(fā)，形成固態(tài)或半固態(tài)薄膜。
主要特點(diǎn)
高均勻性：能實(shí)現(xiàn)納米級(jí)厚度均勻性(±2% 以?xún)?nèi))，適用于對(duì)薄膜均勻性要求很高的工藝，如光刻膠涂覆、抗反射涂層制備等。
厚度可控：通過(guò)調(diào)整旋轉(zhuǎn)速度、涂布時(shí)間和材料黏度等參數(shù)，可以準(zhǔn)確控制涂層的厚度。
適用范圍廣：適用的材料種類(lèi)廣泛，包括聚合物溶液、光刻膠、油墨、涂料等，還可用于硅片、玻璃、金屬等不同材質(zhì)的基板。
操作注意事項(xiàng)
操作時(shí)需選擇合適的吸附盤(pán)，將基片放正，開(kāi)啟真空泵確?；『笤賳?dòng)旋轉(zhuǎn)。滴膠動(dòng)作要快，在規(guī)定時(shí)間內(nèi)完成。電機(jī)停轉(zhuǎn)后，才能打開(kāi)上蓋取下片子，且要定期對(duì)抽氣室進(jìn)行清洗，防止膠液吸入堵塞氣路。
